【安捷伦】 ICP-MS 期刊 | 半导体行业解决方案创新之路，附海量干货下载

安捷伦是第一个为半导体客户提供高端定制 ICP-MS 型号的厂商，也一直引领 ICP-MS 产品及应用在半导体行业的创新。低温等离子体、串接 ICP-MS......安捷伦与业界密切合作，推出了许多创新成果，以满足半导体行业不断变化的苛刻要求。经过几十年风雨磨砺，凭借不断创新和在高纯和高性能材料方面深厚的专业应用背景，安捷伦为全球半导体制造商提供强力支持的同时，也见证了半导体制程一路发展到 10nm,、7nm......

本期向大家介绍，凝结了安捷伦在半导体高纯分析领域几十年的研发成果，并准备了《测量半导体制造中的无机杂质，ICP-MS 应用文集》，供您扫码下载。

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半导体行业中的 ICP-MS 和 ICP-MS/MS

（第 2-3 页）

当今的技术世界高度依赖集成电路 (IC)，其广泛存在于从制造机器人到智能灯泡、从移动电话到汽车和航空航天的各种设备中。

硅基 IC 器件由数百万个封装在硅片芯片上的单个晶体管（或开关）制成。该器件由氧化物、多晶硅、氮化硅绝缘体和导电金属互连件的图案层构成。这些层通过“通孔”连接以形成提供所需计算或存储功能的 3D 结构。

图 1. 硅片制造典型步骤的简化示意图

IC 器件制造中的痕量金属

半导体器件制造需要严格控制污染源。业内人士估计，污染造成了约 50% 的产量损失。晶圆衬底或制造过程中使用的化学品可能引入金属污染物，需严格控制。金属污染物之所以令人关注，是因为它们会通过降低介质击穿电压等原因而影响成品器件的电气性能。

目前的“10 纳米”几何结构所包含的特征大小仅为 20 世纪 70 年代所制造电路的1/1000 左右。这种尺寸的减小和密度的增加需要同时改进对污染的控制。由此产生了对更高纯度化学品的需求，同时对 ICP-MS 性能也提出了更高的要求。

半导体制造中的 ICP-MS

当 ICP-MS 在 20 世纪 80 年代问世时，因其高灵敏度、低检测限和多元素检测能力，半导体制造商和化学品供应商对其非常感兴趣。随着“低温等离子体”在 HP 4500 上的开发，ICP-MS 的应用在 20 世纪 90 年代得到快速发展。低温等离子体使 ICP-MS 测定痕量 Na、K、Ca 和 Fe 成为可能，因此半导体制造商和化学品供应商不再需要使用石墨炉 AAS 测量这些元素。

ICP-MS 制造商不断改进技术，最近推出了串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS)。自 2012 年推出以来，Agilent 8800 ICP-MS/MS 比单四极杆 ICP-MS 提供了更高的灵敏度、更低的背景和更出色的干扰物质控制。这使得监测更多数量的低浓度污染物元素成为可能，包括 Si、P、S 和 Cl 等难以分析的元素。随着 8900 ICP-MS/MS 的推出，安捷伦将继续支持半导体行业推动更小尺寸器件架构、更高产量和更高器件性能的发展。

本期主要内容为：

第 1 页，了解半导体行业的需求如何推动安捷伦 ICP-MS 的创新

第 2–3 页，半导体行业中的 ICP-MS 和 ICP-MS/MS

第 4–5 页，用于半导体制造的高纯度酸分析

第 6 页，电子香烟中痕量金属的测定

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