通过D-Swafer中心切割技术使用GC/MS研究溶剂中的杂质

气相色谱（GC）是分析溶剂中杂质的首选技术，再配上一台质谱检测器，就可以鉴定其中所含的杂质是什么。由于许多溶剂都是通过分馏生产而得到，因此杂质将与溶剂具有相类似的沸点。因而在GC分析中，杂质的保留时间将与溶剂接近，从而共流出的风险将非常高。本文介绍了一种中心切割技术，该技术允许所有注射的样品到达检测器，从而解决了溶剂峰分离度和潜在的检测器损坏的问题。该技术同时提供了一个全面和可信的方法，以检测溶剂中低含量杂质。