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邀请函 | 等离子技术在刻蚀工艺中的应用研讨会—西安站
“等离子技术在刻蚀工艺中的应用研讨会”是由牛津仪器主办的针对等离子技术在刻蚀工艺中的信息共享盛会。
本次活动我们将邀请来自西电大学、西北工业大学以及牛津仪器的技术专家为大家呈现行业最前沿的信息与应用实例，同时针对一些应用中存在的问题进行阐述并给出一些合理化的建议。
等离子技术在刻蚀工艺中的应用
主要议题：（以下议题会有略微改动，以之后发送的新版为准）
Topic | Speaker | |
09:00- 09:20 | Grand Opening-Introductionof OIPT Products Line 欢迎致辞—牛津仪器等离子技术部全产品介绍 | Ian Wright, Asia VP, Oxford Instruments Plasma Technology |
09:20- 09:40 | Grand Opening-Introductionof OI China 欢迎致辞—牛津仪器公司介绍 | Peng ZHANG, GM, Oxford Instruments China |
09:40- 10:30 | Etching Process in GaN 氮化硅中的刻蚀工艺 | Professor Xi'an University |
10:30- 11:15 | InP etching process instruction in opto device 光学器件中InP刻蚀工艺 | Dr. Ligang DENG, Principal Process Engineer Oxford Instruments Plasma Technology |
11:15- 12:00 | Etching and deposition challenge in modern power device 功率半导体器件制造中的挑战 | Dr. Young HUANG, Senior Application Engineer Oxford Instruments Plasma Technology |
12:00- 13:00 | Lunch (Buffet) | |
13:20- 14:15 | Plasma solution in VSCEL VCSEL制造的等离子体解决方案 | Dr. Ligang DENG, Principal Process Engineer Oxford Instruments Plasma Technology |
14:15- 14:30 | Lucky Draw | |
14:30- 15:15 | Etch process in MEMS Application 刻蚀在MEMS中的应用 | Professor Northwestern Polytechnical University |
15:15- 15:45 | Tea Break | |
15:45- 16:30 | Deep Si Etch process in MEMS and TSV application 深硅刻蚀在MEMS和TSV中的应用 | Dr. Young HUANG, Senior Application Engineer Oxford Instruments Plasma Technology |
16:00- 16:30 | Free Discussion | |
在这里你能遇到众多等离子技术研究者和牛津仪器应用专家，彼此分享经验、相互学习… 获得我们确认后，您可免费参加本次会议，因名额有限，请通过以下方式提前预定席位。
发送邮件：china.info@oxinst.com或拨打牛津仪器热线电话400-678-0609
| 标签： | 等离子技术,刻蚀工艺,牛津仪器 |
